De K&F Concept Nano-C HMC UV-filter is een onmisbaar accessoire voor fotografen die hun apparatuur optimaal willen beschermen en de beeldkwaliteit willen verbeteren. Met een diameter van 72 mm is deze UV-filter speciaal ontworpen voor lenzen met een overeenkomstige schroefdraad. Hij biedt niet alleen effectieve bescherming tegen stof, vuil en mechanische beschadigingen, maar vermindert ook reflecties en schitteringen dankzij de 18-laagse HMC-coating. Deze geavanceerde technologie zorgt voor verbeterde helderheid en contrast in uw opnames. Het ultradunne frame met een dikte van slechts 3,3 mm minimaliseert het risico op vignettering, wat vooral voordelig is bij groothoekopnamen. De filter wordt geleverd met een beschermende kunststof koffer die een veilige transport garandeert en de duurzaamheid van het product ondersteunt.

• Compatibel met 72 mm schroefdraad voor veelzijdig gebruik
• Bescherming tegen stof, vuil en vingerafdrukken
• Vermindert UV-straling en verbetert de beeldkwaliteit
• Ideaal voor landschapsfotografie om atmosferische nevel te verwijderen
• Gemaakt van hoogwaardig Japans optisch glas.