Le filtre UV K&F Concept Nano-C HMC est un accessoire indispensable pour les photographes soucieux de protéger leur équipement et d'améliorer la qualité de leurs images. Avec un diamètre de 55 mm, ce filtre UV est spécialement conçu pour les objectifs avec un filetage correspondant. Il protège non seulement contre la poussière, la saleté et les empreintes digitales, mais offre également une protection supplémentaire contre les dommages mécaniques de la lentille frontale. Le revêtement HMC innovant à 18 couches réduit les réflexions et les éblouissements, ce qui améliore le contraste et la clarté des prises de vue. Le cadre ultrafin, d'une épaisseur de seulement 3,3 mm, minimise le risque de vignettage, même lors de prises de vue grand angle. Le filtre est livré dans un étui en plastique protecteur, garantissant un transport sécurisé et soutenant la durabilité du produit.

• Compatible avec un filetage de 55 mm pour une utilisation polyvalente
• Protection contre la poussière, la saleté et les empreintes digitales
• Réduit les réflexions et les éblouissements pour des images plus claires
• Cadre ultrafin pour éviter le vignettage
• Fabriqué en verre optique japonais de haute qualité.