Le filtre UV K&F Concept Nano-C HMC est un accessoire indispensable pour les photographes soucieux de protéger leur équipement et d'améliorer la qualité de leurs images. Avec un diamètre de 77 mm, ce filtre UV est spécialement conçu pour les objectifs avec un filetage correspondant. Il protège la lentille frontale de la poussière, de la saleté et des dommages mécaniques, prolongeant ainsi la durée de vie de l'objectif. Le revêtement HMC innovant à 18 couches réduit les réflexions et les éblouissements, ce qui permet une reproduction des images plus claire et plus contrastée. Le cadre ultrafin, d'une épaisseur de seulement 3,3 mm, minimise le risque de vignettage, même lors de prises de vue grand angle. De plus, le filtre est livré dans un étui en plastique protecteur, garantissant un transport en toute sécurité. Ce filtre est particulièrement avantageux pour la photographie de paysage, car il réduit la brume atmosphérique et améliore la qualité de l'image.

• Verre optique japonais de haute qualité pour une qualité d'image optimale
• Cadre ultrafin pour éviter le vignettage
• Revêtement HMC à 18 couches pour réduire les réflexions
• Protection contre les rayons UV pour améliorer la photographie
• Comprend un étui en plastique protecteur pour le transport.