De K&F Concept Nano-X MRC UV-filter is een onmisbaar accessoire voor fotografen die de bescherming van hun lenzen willen maximaliseren en de beeldkwaliteit willen optimaliseren. Met een schroefdraad van 55 mm is deze UV-filter speciaal ontworpen om de lens te beschermen tegen stof, vuil en vingerafdrukken. Hij vermindert de schadelijke effecten van UV-straling, wat vooral voordelig is bij landschapsfotografie, omdat hij atmosferische nevel minimaliseert en de helderheid van de beelden verbetert. Gemaakt van hoogwaardig optisch HD-glas van het Japanse bedrijf AGC, biedt de filter niet alleen uitstekende scherpte en kleurweergave, maar ook een opmerkelijke duurzaamheid. De 28-laags NANOTEC-coating zorgt ervoor dat de filter krasbestendig en gemakkelijk te reinigen is. Bovendien voorkomt het ultradunne frame vignetteringseffecten die kunnen optreden bij het gebruik van telelenzen. Een praktische beschermhoes is ook inbegrepen om de filter veilig op te bergen.

• Compatibel met 55 mm schroefdraad voor veelzijdig gebruik
• Bescherming tegen stof, vuil en vingerafdrukken
• Vermindert UV-straling en verbetert de beeldkwaliteit
• Hoogwaardig HD-glas voor uitstekende scherpte en kleurweergave
• Ultradun frame om vignettering te voorkomen.