De K&F Concept Nano-C HMC UV-filter is een onmisbaar accessoire voor fotografen die waarde hechten aan de bescherming van hun apparatuur en de verbetering van de beeldkwaliteit. Met een diameter van 55 mm is deze UV-filter speciaal ontworpen voor lenzen met een bijpassende schroefdraad. Hij beschermt niet alleen tegen stof, vuil en vingerafdrukken, maar biedt ook extra bescherming tegen mechanische beschadigingen van de frontlens. De innovatieve 18-laagse HMC-coating vermindert reflecties en schitteringen, wat leidt tot een verbeterd contrast en een hogere helderheid van de opnamen. Het ultradunne frame met een dikte van slechts 3,3 mm minimaliseert het risico op vignettering, zelfs bij groothoekopnamen. De filter wordt geleverd in een beschermende kunststof koffer, die een veilige transport garandeert en de levensduur van het product ondersteunt.

• Compatibel met 55-mm schroefdraad voor veelzijdig gebruik
• Bescherming tegen stof, vuil en vingerafdrukken
• Vermindert reflecties en schitteringen voor helderdere beelden
• Ultradun frame om vignettering te voorkomen
• Gemaakt van hoogwaardig Japans optisch glas.