De K&F Concept Nano-C HMC UV-filter is een onmisbaar accessoire voor fotografen die waarde hechten aan de bescherming van hun apparatuur en de verbetering van de beeldkwaliteit. Met een diameter van 77 mm is deze UV-filter speciaal ontworpen voor lenzen met een overeenkomstig schroefdraad. Hij beschermt de frontlens tegen stof, vuil en mechanische beschadigingen, waardoor de levensduur van de lens wordt verlengd. De innovatieve 18-laags HMC-coating vermindert reflecties en schitteringen, wat resulteert in een helderdere en contrastrijkere beeldweergave. Het ultradunne frame met een dikte van slechts 3,3 mm minimaliseert het risico op vignettering, zelfs bij groothoekopnamen. Bovendien wordt de filter geleverd in een beschermende kunststof koffer, die een veilige transport garandeert. Deze filter is bijzonder voordelig voor landschapsfotografie, omdat hij atmosferische nevel vermindert en de beeldkwaliteit verbetert.

• Hoogwaardig Japans optisch glas voor optimale beeldkwaliteit
• Ultradun frame om vignettering te voorkomen
• 18-laags HMC-coating ter vermindering van reflecties
• Bescherming tegen UV-straling ter verbetering van de fotografie
• Inclusief beschermende kunststof koffer voor transport.