De K&F Concept Nano-C HMC UV-filter is een onmisbaar accessoire voor fotografen die hun apparatuur optimaal willen beschermen en de beeldkwaliteit willen verbeteren. Met een diameter van 49 mm is deze UV-filter speciaal ontworpen voor lenzen met een overeenkomstige schroefdraad. Hij biedt niet alleen effectieve bescherming tegen stof, vuil en mechanische beschadigingen, maar vermindert ook reflecties en schitteringen dankzij de 18-laags HMC-coating. Deze coating zorgt voor verbeterde helderheid en contrast in de opnames, wat vooral voordelig is bij landschapsfotografie, omdat het atmosferische nevel minimaliseert. Het ultradunne frame met een dikte van slechts 3,3 mm voorkomt vignettering en maakt onbelemmerd gebruik van de lens mogelijk. Bij de levering is ook een beschermende kunststof koffer inbegrepen, die de filter tijdens het transport beveiligt.

• Compatibel met 49-mm schroefdraad voor veelzijdig gebruik
• Bescherming tegen stof, vuil en vingerafdrukken
• Vermindert UV-straling en verbetert de beeldkwaliteit
• Gemaakt van hoogwaardig Japans optisch glas
• Ultradun frame om vignettering te voorkomen.