De K&F Concept Nano-X MRC UV-filter is een onmisbaar accessoire voor fotografen die zowel de bescherming van hun lenzen als de beeldkwaliteit willen optimaliseren. Met een diameter van 82 mm is deze filter speciaal ontworpen voor lenzen met een overeenkomstige schroefdraad. Hij biedt effectieve bescherming tegen stof, vuil en vingerafdrukken, waardoor de levensduur van de lens wordt verlengd. De filter vermindert de schadelijke effecten van UV-straling, wat vooral voordelig is in de landschapsfotografie, omdat het atmosferische nevel minimaliseert en de helderheid van de opnamen verbetert. Gemaakt van hoogwaardig optisch HD-glas van het Japanse bedrijf AGC, garandeert de filter uitstekende scherpte en kleurweergave. De 28-laags NANOTEC-coating zorgt voor een krasbestendige en gemakkelijk te reinigen oppervlakte, terwijl het ultradunne frame vignetteringseffecten bij het gebruik van telelenzen voorkomt. Een praktische beschermhoes is ook inbegrepen om de filter veilig op te bergen.

• Hoogwaardig optisch HD-glas voor uitstekende scherpte en kleurweergave
• 28-laags NANOTEC-coating voor krasbestendigheid en eenvoudige reiniging
• Ultradun frame om vignettering te voorkomen
• Effectieve bescherming tegen UV-straling en atmosferische nevel
• Inclusief praktische beschermhoes voor veilig transport.